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正文卷 第一百三十二章 提前截胡台积电(4K)
    “你怎么知道采用ArF技术会造成更多的线边波动和不规则性?

    关于ArF技术路线,在IEEE的杂志上有,但是无论是尼康还是佳能的工程师发表在上面的论文,都只说了好处没有说缺陷。”林本坚惊讶地问。

    周新说:“尼康和佳能为了误导竞争对手,故意不谈ArF技术路线的缺点。

    为的就是让竞争对手也踩到这个坑里去。

    他们已经投入了大笔研发经费到ArF技术路线,没有找到办法解决ArF光源带来的线边波动和不规则性问题,所以他们认为其他竞争对手也解决不了这个问题。”

    林本坚默默点头:“没错。

    就是这样。”

    周新继续说:“在技术路线上误导竞争对手,这不是集成电路领域的常规操作吗?”

    林本坚还是很好奇,他知道ArF技术路线的缺陷,是因为他从事这个领域的研究超过二十年,他有大量的人脉。

    由于保密协议的缘故,他的朋友无法直接告诉他,只能通过暗示的方式,向他透露ArF技术路线有重大缺陷。

    他对此也只是猜测,没有证据的猜测。

    为什么周新能够说得如此笃定,并且把ArF技术路线的缺陷也说得如此清楚。

    要知道有资格进行ArF技术路线实验的实验室,也就那几家光刻机公司。

    周新战术喝水之后说:“林伯,我知道你在想什么,我是不是买通了尼康的技术人员,从他们那获得了技术机密。

    实际上ArF技术路线的缺陷,这很容易就推理出来。

    ArF光源的波长为193纳米,相较于KrF光源的248纳米波长更短。短波长光源在光刻过程中,显然会受到更严重的散射、衍射和光学近场效应的影响,导致图案传输过程中的线边波动和不规则性增加。

    同时使用ArF光源的光刻技术用于更先进的制程节点中,这导致晶圆需要实现更高的分辨率。

    随着尺寸的缩小,光刻过程中的图案边缘更容易受到光学近场效应、衍射和光刻胶吸收等因素的影响,从而导致线边波动和不规则性。

    这是基于物理知识的推论。”

    林本坚鼓掌,“精彩的推演和敏锐的洞察力。

    当时正明和我说他从燕大找到了天才学生的时候,我还在想到底有多天才,让他那么得意。

    你在这方面的天赋比我猜测的还要更出色。

    伱刚刚说的还差了两点。

    一点是ArF光源的波长更容易被光刻胶吸收,这会导致光刻胶的曝光不均匀,进而影响成像质量。所以需要专门针对ArF光源设计专门的光刻胶。

    但是专门针对ArF光源设计光刻胶,来减少吸收呢,新光刻胶又很有可能会进一步造成线边波动和不规则性。

    另外采用ArF来构建先进制程,会采用多重曝光技术、相位移光掩膜技术和偏振光技术等。

    这些技术一定程度上又会增加线边波动和不规则性。

    所以造成线边波动的原因比你猜测的更多。”

    周新问:“可是有这么多困难,为什么前辈你还是看好ArF路线?”

    周新怎么知道林本坚看好ArF技术路线,因为林本坚这次在参加光学大会接受采访的时候自己说的。

    “是帮光刻机公司打掩护吗?”

    林本坚笑了:“我已经从IBM离职了,IBM这几年也几乎没有在光刻机领域继续投入了。

    我又没有为尼康或者佳能工作,为什么要帮他们打掩护。

    我当然是从我内心出发更加看好ArF技术路线。

    我们刚刚说的是ArF的缺点,这些缺点只是暂时的。

    在KrF光源代替g线和i线的过程中,同样有很多困难。”

    g线是436nm波长的光源,i线是365nm波长的光源。

    “相对于g线和i线,KrF需要新的光刻胶和抗反射涂层材料来适应KrF光源的特性。

    同时KrF要求更高性能的光学系统和光掩膜材料。当时需要采用更先进的透镜和光学元件,以实现更高的数值孔径和分辨率。

    此外,光掩膜材料也需要具有更低的散射和吸收特性。

    KrF还需要优化曝光过程,以提高成像质量。我们当时主要采用了双重曝光和离焦曝光技术来降低光刻误差。

    让我想想,对了,我们当时在研发KrF光源的时候还要对控制进行考虑,因为KrF实现了更高的分辨率,所以需要更严格的制程控制要求。

    需要对光刻胶涂覆厚度、曝光剂量、显影过程等参数进行更精确的控制,以保证光刻成像质量和产量。

    这么多困难,我们照样克服了,最终KrF光源代替了g线和i线,成为了今天的最先进的制程光源。

    同样未来短波长的光源势必然会代替长波长的光源,这是技术进步的必然。

    我们刚刚讨论的困难只是暂时的困难。”

    ASML、尼康和佳能只是暂缓了在ArF上的投入,而不是停止了在ArF技术路线上的投入。

    后来ASML实现弯道超车,也是因为他们选择了正确的技术路线,ArF光源以水为介质,在光刻胶上面抹一层水。

    水的介质折射率是1.44,193纳米÷1.44≈134纳米,ArF光源的波长进一步减少了。

    ASML能够干掉尼康和佳能,垄断光刻机领域,他们在技术路线的两个关键节点都做出了正确的选择。

    应该稳健的时候他们比尼康稳健,从而在光刻机市场站稳了脚跟。

    应该激进的时候他们比尼康激进,从而占据了高端市场,把高额利润全部吃掉了,后续一直保持住了技术领先。

    ArF技术路线突破之后,ArF的波长是193nm,他最多能够制造65nm的芯片。

    如果要制造40nm制程以下的芯片,需要找到160nm以下的光源。

    尼康和佳能等企业选择的是157nm的F2激光,而ASML找到了光源做介质直接一步到位了。

    当然没有加一层水那么简单。

    “我关于ArF技术路线一直认为是有办法解决的。

    首先是需要专门针对ArF光源设计对应的光刻胶,其次是研发抗反射涂层,然后是改进光刻机的光学系统,找蔡司定制更先进的透镜。

    来实现更高的数值孔径和分辨率。

    同时在曝光过程中进行优化。我专门针对ArF光源设计了一套分辨率增强技术。

    包括辅助特征、离轴照明、双曝光技术等,用以改善图案传输质量和提高分辨率。”林本坚很兴奋,难得见到这么懂ArF技术的同行。

    其他懂这玩意的都签了保密协议,林本坚和他们聊的很不尽兴。

    华国差的不仅仅是光刻机,差的是整个高端制造业,即便能造出光刻机,光学镜头也能卡你脖子。

    不过蔡司是德意志企业而且没上市,阿美利肯的长臂管辖管不到蔡司。

    周新听完之后感慨对方不愧是大师级人物,还没有加入台积电已经有完整的计划了。

    同样一件事,有的人是纸上谈兵,有的人是决胜千里之外。

    华国价值观以结果为导向,周新知道林本坚未来的成就,更别说林本坚说的这些都是绝对的干货。

    又和林本坚探讨了一番ArF技术路线的未来后,周新问:“林伯,我打算成立一家光刻机公司,我需要真正懂行的人来帮我。

    你有没有意愿来帮我做事,我给你的职位是研发主观。

    首批研发资金十亿美元,我给你百分之二十的股份,但是你加入之后需要签竞业协议,同时我们的光刻机公司会放在华国。”

    林本坚听完前半句话想马上答应下来,十亿美元的研发资金,百分之二十的股份。

    这是何等的信任,光是十亿美元的研发资金,这家企业也最少值10亿美元。

    直接就是给你两个亿。

    听完后半句他心一凉:“Newman,我知道你是华国人,希望帮助华国在半导体领域有所发展。

    我也是华裔,在有能力和有机会的前提下,我同样希望为华国的半导体行业发展进步贡献自己的力量。

    但是光刻机的研发,非常依赖于和芯片制造厂商之间的合作。

    华国没有什么成熟的芯片制造厂商,我们把研发基地放在华国,很难有所进展。

    不管我是否答应你的条件,我都建议你放在弯弯或者阿美利肯。

    弯弯有台积电,阿美利肯有英特尔的芯片代工厂。

    在这两个地方,你才有机会把你的产品在生产环境中经过充分的实验。”

    ASML的研发中心遍布全球。

    周新说:“世大半导体的张汝京在筹备回华国成立芯片代工厂的事情。

    他们的选址、资金和团队都已经就位了。

    我们前期筹备阶段和实验室研发阶段,这个时期是不需要和代工厂合作的。

    我们的进度会比张汝京那边的进度更慢,等到我们的实验室产物研发出来之后,正好可以送到他们那里去进行验证。

    张汝京的芯片代工厂,刚刚起步的时候我们才有机会进去。

    无论是台积电、英特尔还是三星,他们都很难给一家新成立的光刻机公司机会。

    让我们的实验室产物介入他们的生产流程中。

    反而在我看来,华国才是机会所在,我们需要借助华国的代工厂打出名气,然后才有机会和其他的芯片代工厂合作。

    这也是农村包围城市的打法。”

    为什么华国的光刻机是实验室产物,因为没有在生产环境中经过充分验证。

    因此ASML对华国禁运从某种意义上来说是好事,如果不禁运,华国自主研发的光刻机永远都不会有机会进入到生产流程中。

    林本坚说:“你要成立的光刻机公司现在有多少人?”

    周新说:“你是第一个,你负责把研发团队搭建起来,你是研发主管。

    我会给你完全的信任和自主权。

    我只会在研发方向上给我的建议和思考。”

    林本坚听完有点无语,说白了只有钱没有人。

    “我需要时间来思考。

    Newman既然你邀请了我,那么我也不介意把话说得更直接。

    对于一家光刻机公司来说,十亿美元可能只是前期研发的投入,如果我们不能早点实现盈亏平衡,不能制造出可以进入生产环境的光刻机。

    那未来需要你不断投入研发费用,或者直接解散公司。

    因此10亿美元只是入场券,靠产品实现盈亏平衡才代表这家光刻机公司活了下来。

    其次即便我们成立公司,还是有很多无法绕过的专利需要向尼康、ASML、IBM、德州仪器这些公司买,购买专利使用权。

    我们不可能所有技术都靠自己来研发。

    当然未来我们研发出来的技术,他们要使用也需要向我们缴纳专利使用费。

    另外你开的待遇很高,我还是第一次收到这么高待遇的offer。

    从待遇的角度出发,绝对是能够让我满意的。

    我成立的林创都快八年时间了,估值连五千万美元都没有。

    只是我一个人主导这件事,我不确定自己能干好。

    我其实没有太多管理的经验,我只管理过几个人的研发团队,管理一家光刻机公司的研发团队,这个规模的管理工作我没有做过。

    负责一家光刻机公司所有研发人员从零开始的团队构建,我就更没有做过了。

    我担心自己做不好。”

    周新不担心,林本坚加入台积电之后最高做到了台积电的副总裁。

    台积电这个体量的公司,副总裁可比他们要成立的光刻机公司要管的人多得多。

    周新说:“我充分地相信你有这个能力。

    管几个人和管几十个人,其实差不多,你只需要把主管管好就行。

    另外我会帮你找一个足够出色的帮手,他会和你一起负责公司的组建和管理。”

    林本坚好奇问:“谁?我认识吗?正明吗?

    你劝他也离开伯克利,来和你一起创业吗?

    正明比我要好一些,思略半导体要比林创更有价值,估值也要高得多。

    正明现在应该还没有另外再开始管一家公司的念头吧”

    周新摇头:“不是胡教授,我不知道你认不认识。

    他是弯弯人,之前在加州那边的半导体公司做模拟IC设计。

    关建英,你认识吗?”

    林本坚说:“我好像有点印象,但是肯定不熟,最多是见过。”

    是的,周新刚得知的消息,老关被人赶出来了。

    这是补昨天的,今天更了1w,昨天的4k加今天的6k。

    本来中间一度想摆烂,最终还是咬牙坚持下来了。

    即便周末,写一万字还是很累。

    最后求个月票!

    (本章完)